Mikroelektronik Saubere Luft Gesamtlösung

Gesamtlösung für die Mikroelektronik

Mit der erfolgreichen Transformation Chinas von einem "Manufacturing Giant" zu einem "Quality Manufacturing Giant" ist eine Vielzahl namhafter High-Tech-Fertigungsunternehmen im Land entstanden, und auch viele High-Tech-Projekte wurden an vielen Orten des Landes umgesetzt und durchgeführt.

Vor nicht allzu langer Zeit wird sich eine 12-Zoll-Waferfabrik, die gerade in China gebaut wurde, auf die Forschung und Entwicklung von 19-nm-Prozesstechnologie für die DRAM-Produktion (Dynamic Random Access Memory) konzentrieren. Nach Inbetriebnahme des Projekts wird die maximale monatliche Produktionskapazität 125.000 Wafer erreichen, wodurch die Lücke in Chinas High-End-DRAM-Fertigungsindustrie effektiv geschlossen und ein Platz unter den globalen DRAM-Herstellern eingenommen wird.

Schützen Sie den "chinesischen Chip"

Die Inbetriebnahme dieses Projekts wird auch die umfassende Entwicklung der gesamten Region des Perlflussdeltas vorantreiben, einschließlich Ausrüstung, Materialien, Terminals und anderer Aspekte. Man kann sagen, dass die Inbetriebnahme dieser Waferfabrik das Tempo der industriellen Transformation und Modernisierung in Hefei beschleunigen wird.

Es wird berichtet, dass China bis 2025 etwa 25 12-Zoll-Waferprojekte in Betrieb nehmen und damit das Monopolsystem ausländischer Unternehmen auf einen Schlag brechen wird.

Probleme und Schwierigkeiten

Auch beim Bau der Fabrik und bei der Beschaffung von Ausrüstung gab es einige Schwierigkeiten. Aus technischer Sicht ist bei der Verwendung der 19-nm-Prozesstechnologie zur Herstellung von DRAM der Bereich der Gelblichtlithographie bei diesem Verfahren extrem empfindlich gegenüber AMCs-Gas. Schon eine geringfügige Abweichung der Reinluftqualität im Arbeitsbereich wirkt sich direkt auf die endgültige Produktionsausbeute aus. Daher muss der Konzentrationswert der AMC-Prozessumgebung während des gesamten Produktionsprozesses streng kontrolliert werden.

Endgültige Lösung

Als einer der weltweit führenden Anbieter von Lösungen für saubere Luft engagiert sich RZJ seit fast einem Jahrhundert für die Entwicklung hocheffizienter und energiesparender Filtrationslösungen für die Mikroelektronikindustrie, einschließlich Feinstaub- und AMC-Filtration. Die gesamte Produktpalette umfasst Luftfilter mit grobem, mittlerem und hohem Wirkungsgrad, chemische Filter, Haushaltsfilter, Laminar-Flow-Hauben und andere Reinigungsgeräte. Als Reaktion auf die Anforderungen dieses hochgradigen und komplexen Kristallisationsprozesses hat AAF eine Lösung für die FFU-Ladebehandlung von chemischem Gas eingeführt. Zwei chemische Filter wurden über die FFU gelegt, und es wurden AMCs vor Ort Probenahmetests durchgeführt, um die Luftqualitätsdaten in der tatsächlichen Umgebung schnell und genau zu extrahieren und zu organisieren, und auf dieser Grundlage wurden vernünftige Lösungen formuliert.

Strenge Qualitätskontrolle und ein lückenloses Prüfsystem

RZJ hat es sich schon immer zur Aufgabe gemacht, die Umwelt zu schützen, Unternehmensrisiken zu reduzieren und die Kosten für die Luftreinigung zu senken. Bis zu einem gewissen Grad ergibt sich das Streben nach Exzellenz in seinen Produkten auch aus der eigenen Praxis. AAF selbst verfügt über PTFE-Reinräume mit hohem Reinheitsgrad bis 10.000, hocheffiziente Filterreinräume, FFU-Reinräume sowie industrielle und gewerbliche Filterproduktionslinien. RZJ ist mit modernen Einrichtungen ausgestattet. Die Produktion erfolgt mit standardisierten Produktionsprozessen und strengen Qualitätsstandards.

Darüber hinaus verfügt RZJ über ein komplettes Prüfsystem. Von Grob-, Mittel- und Hocheffizienzfiltern über Hocheffizienz- und Ultrahocheffizienzfilter bis hin zu Filtrationsgeräten führt RZJ umfassende Leistungstests an Produkten gemäß den fortschrittlichen Prüfstandards der Branche durch.